機器一覧

サムネール画像をクリックすると拡大表示されます。

  装置名（メーカー / 型式）
仕様
1.真空蒸着装置【有機ディバイス(EL)研究用蒸着装置】
（ALS / E-100）
[機器概要] 有機材料及び金属の蒸着により、半導体素子の電極形成や有機物の蒸着、 更に2源同時蒸着によりドープすることができます。
また、基板を回転させることで、均一な蒸着膜の作製が可能です。
[蒸発源] 抵抗加熱蒸着源 対応8源（同時蒸着 2源）
[主排気系] ターボ分子ポンプ
[基板サイズ] 最大100 mm 角
[排気操作] 自動排気
[蒸着モニター ] インフィコン製 ２式搭載
2.小型高真空蒸着装置
（アルバック / VPC-260FS）
[機器概要] 抵抗加熱式の小型真空蒸着装置です。高真空中で気化した 蒸着材料が基板に衝突することによって薄膜が付着します。
チタン蒸着膜など金属薄膜の作製が可能です。
[到達圧力] 6.5×10-4Pa 以下
[蒸発源] 抵抗加熱蒸着源2源
[主排気系] 油拡散ポンプ 200 L/sec
[基板サイズ] φ4 "
[排気操作] 手動排気
[蒸着モニター ] インフィコン製 １式搭載
3.真空蒸着装置
（アネルバ / L-043E-TN）
[蒸発源] 3元蒸着源
[主排気系] TMPによる排気
ベーキング（内部ヒータ及びベルジャーシースヒータ）
[到達圧力] 5×10-5Pa 以下
4.赤外線加熱単結晶製造装置 - Floating Zone炉
（NEC / SC-M50XS）
[機器概要] 光を集光して無機化合物を溶かし再結晶化させることで単結晶を作製する ことができます。
TiAlMoSi2等の金属間化合物ならびにAl2O3等のセラミックスの作製ができます。
[光源] キセノンランプ
[最高加熱温度] 2700℃
[結晶成長速度] 0.2～50mm/h
5.電界放出形走査電子顕微鏡（ FE-SEM ）
（日本電子社製　JSM-7800F）
[機器概要] 2013.12.13に新規導入された最新鋭の装置です。走査電子顕微鏡としては最高峰の性能を誇ります。
[加速電圧] 0.01～30ｋV
[倍率] 25～1,000,000倍
[装備] 低真空システム，EDS, STEM, BED, USD
6．X線回折装置
（リガク / RINT2000）
[機器概要] 試料へX線を照射し、入射角度を変化させながら、反射強度を測定することで、試料の結晶構造を確認することができます。数10nm の薄膜でも測定が可能です。
[定格出力] 2kW
[管電圧設定] 20kW～60kW
[管電流設定] 2mA～50mA
空冷式冷却送水装置付
7.走査型近接場光学顕微分光システム(SNOM)
（日本分光 / NFS-230K）
[機器概要] 近接場光と試料表面が相互作用することにより発生した散乱光を分光検出します。
[測定モード] コレクション、イルミネーション(透過)、
イルミネーション・コレクション、
[波長分解能] 0.5nm 以下
[測定波長範囲] 500～1000nm (使用するプローブに依存)
[検出器] 電子冷却または液体窒素冷却マルチチャンネルCCD検出器
8.赤外顕微測定システム
（日本分光　FT/IR-6600、IRT-5200）
[波数範囲] 7800cm-1～350cm-1
[SN比] 8000:1
9.表面分析装置【大気下光電子分光装置】
　（理研計器 / AC-1）
[機器概要] 大気中において、紫外線励起による光電子数を計測し、サンプル表面を分析する装置で、低エネルギー電子計数装置を用いたものです。
仕事関数やイオン化ポテンシャルの絶対値、フェルミ準位近傍の電子状態密度を大気中にて測定ができます。
[光源] 重水素ランプ
[エネルギー走査範囲] 3.40～6.20eV
[分光器] グレーティングモノクロメーター
[最大サンプ形状] 150mm 角、厚さ15mm

10.顕微分光システム
（Photon Design / PDP-353）
[機器概要] 化学分析や分子構造の決定を行う測定です。
[光学配置] トリプルモノクロメータ
[焦点距離] 640mm
[測定可能波長範囲] 350～1000nm
[波数分解能と精度] それぞれ0.15cm-1と0.1cm-1
[CCD検出器] 2000×800ピクセル
11.非接触光学式薄膜計測システム
（Scientific Computing International / Film Tek4000）
[機器概要] 非接触、非破壊で高精度の屈折率測定を行うことができます。
膜厚、屈折率、吸収係数の測定に最適です。
最大5層までの屈折率、吸収係数、膜厚測定が可能です。
[膜厚測定範囲] 3nm～200μm
[測定波長範囲] 190～1700nm
[屈折率測定精度] ±0.00002

12.分光エリプソメーター
（日本分光 / M-150）
[仕様] 波長 250nm～850nm
13.超伝導核磁気共鳴装置(NMR)
（Bruker/ AVANCE NEO 400）
[機器概要] 超伝導磁石が作り出す高磁場中に目的試料をセットし、試料による微弱な電波の吸収を測定することで、目的物質の構造などを調べる装置です。
[周波数] 400MHz
[測定対象] 液体、固体
[測定条件] 多次元、多核、温度可変
14.透過型電子顕微鏡(TEM)
（日立 / H-7600）
[機器概要] nm(ナノメートル)レベルの高倍率の観察が可能です。
主に医学生物のバイオ分野や材料の研究開発、食品、薬品等の製造業における品質管理などの様々な分野で高倍率の観察に対応できます。
[加速電圧] 120kV
[測定条件] 冷却ホルダー　(-120℃まで）
15.ミクロトーム【顕微鏡観察試料用超薄切片作製装置】
（ライカ / ULTRACUT）
[機器概要] 透過電子顕微鏡の超薄切片及び光学顕微鏡の準超薄切片の作製が出来ます。
[仕様] クライオスタット付き
16.元素分析機
　（Perkin Elmer/ SERIES　II　2400）
[機器概要] CHNモードでは、有機物をはじめ多くの物質を構成する C、H、N は、燃焼すると CO2、H2O、NOx ガスとなります。
サンプルを完全燃焼させ生成した CO2、H2O、N2（NOxを還元）を測定することによって、C、H、N の定量を行います。
[分析モード] CHN分析、CHNS分析、O分析。
17.分光蛍光光度計
（島津製作所 / RF-5300PC）
[機器概要] 高感度、高速、自動化を追求した分光蛍光光度計です。
[測定範囲] 220-750nm
18.高性能X線小角(高角)散乱装置
【ナノスケールX線構造評価装置】
（リガク / Nano Viewer）
[機器概要] ゲノム（蛋白質）、半導体材料、高分子材料、環境材料等の物質の分子レベルの構造（1nm～100nmのマクロ構造）から原子レベルの構造（0.2nm～1nmのミクロ構造）まで評価できる、Ｘ線構造評価装置です。
専用セルホルダーを用いた特殊環境下（温度（25～200 ℃）、圧力（0.1～500 MPa）、磁場（0.3Tサマリウムコバルト磁石））で構造の変化を観察することができ、物質の機能を評価できます。
例えば、燃料電池のイオン交換膜（温度と湿度）や液晶（温度と磁場）、共重合体の高分子材料（温度と濃度）などの構造評価が可能です。
生体材料の機能評価、インプレーン小角測定による薄膜の評価、超微粒子の自己組織化の評価などが可能です。
[測定範囲] 0.2-100nm
19.スパッタ装置
（アルバック / MUE-ECO-C2）
[スパッタカソード] 2インチマグネトロン式　×２
[基板加熱] 最高300℃
20.オートグラフ【コンピューター計測制御式精密万能試験機】
（島津製作所 / AGS-H）
[機器概要] 様々な分野での素材、製品の静的な物性評価に使用される装置です。
各種の試験治具を交換することにより、引張試験、圧縮試験、曲げ試験、せん断試験、および剥離試験などの試験が実施できます。
[容量] 100N(10kgf)
21.自己組織化構造作製装置
（ユーエスアイ・システム / ESD-23改）
[移動速度] 0.1～99.9mm/min
21-1.自己組織化構造作成技術
当機関の特徴的な技術である自己組織化構造作成技術は、フォトリソグラフィーでは作成できない形状も作製が可能です。
形状、材質については、お気軽にご相談ください。
22.紫外可視近赤外分光光度計
（日本分光 / V-670）
[機器概要] 紫外領域から近赤外領域まで連続して測定できる分光光度計です。
[測定範囲] 190～3200nm
23.フーリエ変換赤外分光光度計
（日本分光　FT/IR-6600）
[機器概要] フーリエ変換赤外分光光度計（FTIR）は、赤外光を試料に照射し、透過または反射した光量を測定する装置です。赤外光は、分子の振動や回転の運動エネルギーとして吸収されます。測定で得られる赤外吸収スペクトルは、分子の化学構造によって固有なものになるため、化合物の構造推定や定量、異物の同定、製品評価などに用いられています。
[測定範囲] 7800cm-1～350cm-1
24.ドラフト
（島津製作所/ CBI-ZC18S　2台）
[機器概要] ドラフトチャンバー(ドラフト)は、揮発性の有害物質を取り扱うときに用いられる局所排気装置であり、合成化学実験では必須のものですが、これを外部の企業や大学に開放している研究施設は多くありません。前面が上下にスライドするガラス窓となっており、少し開けて、下から手を入れて実験操作を行うことにより実験者を有害物質から守ることができます。
[内寸] 幅1400mm x 高さ1000mm x 奥行500mm　２台
[配管] ガス、水道、窒素ガス、ＡＣ１００Ｖ１５Ａ×２
25.3D測定レーザ顕微鏡
（オリンパス/ LEXT OLS4000）
[機器概要] 非接触で試料の検査・測定が可能な3D測定レーザー顕微鏡です。正確な測定性能に加え、非接触表面粗さ測定機として従来の粗さ測定機では不可能だった測定を可能にします。 急峻な角度を持つサンプルも確実に測定できます。反射率の差があるサンプルも鮮明に取得できます。透明体の形状測定、面膜厚測定が可能なマルチレイヤー機能をもっています。抜群の粗さ解析能力です。
[レーザ波長] 405 nm半導体レーザ
[総合倍率] 108～17280×
[観察視野] 2560×2560～16×16μm
[最大標本高さ] 100mm
[駆動分解能] 0.01μm
[繰り返し性] σn-1=0.012μm
26.顕微ラマン分光
（Photon Design/ RSM-310）
[機器概要] マッピング機能あり。
[レーザー波長] 1064nm

27.走査型プローブ顕微鏡
（日本電子/ JSPM-5200, JSPM-4200　計2台）
固体表面の微細形状を観察する装置としては走査型電子顕微鏡（SEM）と共によく利用されます。通常のSEM像は二次元情報ですから表面で観察された部位について垂直方向に定量的な計測をすることはできません。また、表面の凹凸高低差が微小で数nmレベルになるとSEMで構造を認識することは困難になり、単なる平坦面としか観察されなくなります。

一方、走査型プローブ顕微鏡（SPM）は先端の曲率半径が10nm程度の極めて細い短針（カンチレバー）を試料の表面に近づけ、短針先端の原子と試料表面の原子との間に働く引力または斥力を制御しながら表面を走査することで形状を画像化する装置ですが、次のような特徴があります。

1)三次元情報として立体的な像が得られます。
2)垂直方向の分解能は0.01nmで、極めて微細な原子レベルの凹凸形状を測定できます。
3)形状以外に局所の粘性、弾性、摩擦力、吸着力などの差を反映したドメイン観察（マッピング）ができます。
4)大気圧、真空、水中など様々な雰囲気条件下で観察可能です。SPMでは試料を真空環境下に置かずに測定できますので、例えば水で膨潤した状態のポリマー表面を観察するなどSEMでは原理的に測定できない材料系の形態を調査できます。
[機器概要] AFM(コンタクト、ACモード）、位相像、FFM、STM、CITS、I-Vなど多彩なモードに対応。
[分解能] AFM: 原子分解能(コンタクトモード時マイカ原子像)、STM: 原子分解能(HOPG原子像)
[XY操作範囲] 0～10μm
[Z範囲] 0～3μm
[試料サイズ] 10mm×10mm×3mm(標準）、最大2インチウェハ
28.キャピラリーガスクロマトグラフ
（島津/ GC14B）
[機器概要] ガスクロマトグラフ分析計（GC）は、気体試料や気化した液体試料に含まれる成分の定量分析を行う装置です。主に有機化合物の分析に優れており、工場排水中の揮発性有機化合物（VOC）の濃度測定から、品質管理、各種分野の研究まで幅広く活用されています。
29.サイズ排除クロマトグラフィー分析システム
（島津/ CLASS-VP）
[機器概要] UV-vis検出器（SPD-10Avp）
PDA検出器 （SPD-M10Avp）
RI検出器（RID-10A）
LALS-Visco検出器（Viscotek270／Viscotek社製）
30.サイズ排除クロマトグラフィー分取システム
（日本分析工業/ LC-9204）
[機器概要] 分取HPLCにおいて、より良い分離を得るためには、カラムは長いほど良いのですが、設置スペースの問題、負荷圧力の問題のため、カラムの長さには制限が生まれます。
そこで、リサイクル法を用いることで、カラムから溶出した分離不十分な成分を、何度もカラムを通すことにより、実際には長いカラムを使用したことと同等となり、高分離能を得ることができます。
また、リサイクル中は溶媒を一切消費しない為、効率的に分離能力を向上させる究極の分離・分取手段です。
[使用カラム]  
JAIGEL-1H [排除限界分子量（ポリスチレン換算分子量）]1,000
[適用分野]一般有機物、天然物（漢方薬）、高分子添加剤
JAIGEL-2H [排除限界分子量（ポリスチレン換算分子量）]5,000
[適用分野]一般有機物、天然物（漢方薬）、高分子添加剤
JAIGEL-4H [排除限界分子量（ポリスチレン換算分子量）]5×105
[適用分野]オリゴマの分離、分子量による分割、オリゴマの分子量分布測定
JAIGEL-5H [排除限界分子量（ポリスチレン換算分子量）]5×106
[適用分野]オリゴマの分離、分子量による分割、オリゴマの分子量分布測定、ポリマの分子量による分割、ポリマの分子量分布測定
31.走査型電子顕微鏡（ SEM ）
（日立ハイテク　TM4000PlusII）
[機器概要] 物質表面の微細構造を観察する装置として、あらゆる産業分野において、幅広く利用されている小型で簡単に操作可能なSEMです。
[加速電圧] 5、10、15、20 ｋV
[倍率] 10～100,000倍
[装備オプション] EDS、UVD、カメラナビゲーションシステム
32.蛍光顕微鏡
（オリンパス社製　BX51）
[機器概要] この顕微鏡は落射型と呼ばれるタイプで、対物レンズが励起光の照明と蛍光像の観察の両方を兼ねるしくみになっています。対物レンズには蛍光用を使用する必要がありますが、位相差観察（蛍光位相差用対物レンズ使用）や微分干渉観察との同時併用観察ができるという利点があります。
[撮影装置] 顕微鏡用デジタルカメラ　DP73
33.円二色性分散計（ CD ）
（日本分光社製　J-820）
[機器概要] CDはキラルな物質の絶対配座の決定、生体高分子の立体構造解析に広く用いられます。
[機能] CD/蛍光同時測定
[測定波長範囲] 163～1100 nm
[CD分解能] 0.0005 mdeg
[付属装置] ペルチェ式恒温セルホルダ付
34.触針式表面形状測定器
（Bruker　Dektak XT）
[機器概要] 本装置は、ダイヤモンドの触針の下で精密な基準表面上のサンプルステージを直線的に移動させることにより表面形状およびうねりを測定でき、同時に表面粗さをナノメートル以下の範囲で得ることができる触針式表面形状測定装置です。
[用途] 直径200mm以下の基板上に形成された、膜厚段差、表面形状、あらさ、うねりの測定
[測定波長範囲] 1nm～1mm
[測定長さ] 55μm～55mm
[最大サンプリングデータ数] 120,000点
[触針圧] 1～15mg
[サンプルステージサイズ] 直径200mm
35.ラマンイメージング
（レニショー社製　inVia）
[機器概要] 2013.12.13に新規導入された最新鋭の装置です。ラマンスペクトルは分子・物質の構造解析に広く用いられますが、ラマンイメージングでは特定の物質の二次元・三次元の分布を調べることができます。EDXでは元素の分布を調べることができますが、分子・物質の分布を見ることができませんので、ラマンイメージングと相補的な情報を与えてくれます。製薬、カーボンとダイヤモンド、材料科学、地球科学と宝石学、鑑識科学、ナノテクノロジー、美術と遺産、半導体、といった広い分野で応用されています。（参照サイト）
[レーザー波長] 325nm, 532nm, 785nm
[機能] 二次元・三次元マッピング機能（0.1μm位置再現性）
[波数域] 100～4000cm-1
[付属装置] 温度調節ステージ
36.スピンコーター
（ミカサ社製　１HD7）
（共和理研社製　K-359S1）
[機器概要] スピンコーターは遠心力で薄膜を作成する装置です。回転する基材にコートする材料を溶解した液滴を滴下し、均一に薄く広がった後、溶媒が飛散して薄膜が形成されます。半導体製造工程において広く使われ、DVDなどのディスク媒体でも記録面に有機色素膜や保護膜生成のために使われます。原理も操作も簡単ですが、高品質の薄膜を能率よく生成する手段として非常に優れています。
37.接触角計
（協和界面科学社製 DM-501）
[機器概要] 液体を固体表面に滴下すると、液滴となります。この液滴の接線と固体表面とのなす角を「接触角」といいます。接触角は「ぬれ」をあらわす指標としてわかりやすく、あらゆる産業分野で表面評価手法として採用されています。
[機能] 液滴の自動認識で画像取り込み、自動計測します。
38.有機合成
[概要] 新たな機能や効果をもった次世代の素材の研究開発を支えるため、ドラフトやグローブボックス等の合成環境や合成標品の分析装置を提供するとともに、分子・物質合成のノウハウを提供します。
[支援事例] 蛍光性分子合成、新型液晶分子合成
39.高分子合成
[概要] 高分子合成は有機合成の中でも特殊な技術ですが、本学には合成のノウハウの蓄積がありますので、支援ご希望の方はお問い合わせください。
[支援事例] 分子モデリング、高分子ラジカル重合、液晶高分子合成
40.グローブボックス
（美和製作所社製　SDB-1T）
[機器概要] 本装置を用いることで無酸素の環境で合成実験や試料調製を行うことができます。
[構造] パージ式ガス置換型　
サイドボックスのみ真空引ガス置換構造

41.液体クロマトグラフィー分析システム
（島津製作所社製　CLASS-VP）
[機器概要] 逆相クロマトグラフィーによって合成評品の純度検定を行います。
[付属装置] UV-vis検出器（SPD-10Avp）
RI検出器（RID-10A）
[使用カラム] Shodex 5SIL4E

42.液晶配向膜ラビング装置
（日本文化精工社製（自作））
[機器概要] ラビング布と呼ばれるローラーに巻きつけた布を用いて基板に塗布した配向膜をこすることで様々な特性を配向膜に付加する。
[仕様] 真空吸着テーブルサイズ（５０Ｘ５０ｍｍ）
ラビングローラー回転速度可変<1000rpm
テーブル移動速度調節可
真空吸着テーブルθ調整機構付き
43.リアクティブエッチング装置
（サムコ社製 RIE-10NR）
[機器概要] Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたRIE（リアクティブイオンエッチング）装置です。本装置は、PLCコントロールで全自動運転及びプロセスパラメータの保存ができるRIE装置です。
[仕様] 高い選択比と高精度のエッチングが可能
全自動運転
φ8インチウェハーの加工が可能
44.熱重量測定装置
（島津製作所社製 TGA-50）
[機器概要] 耐震性、安定性、ノイズレベル、室温変動の影響などどの項目に対しても優れた性能を持っています。数μgオーダーの質量変化も明確に検出できます。
[仕様] 温度範囲：常温～1000℃
測定範囲：±20, ±200mg
最大試料量：1g(風袋含)
45.示差走査熱量計
（Perkin Elmer　DSC 8500）
[機器概要] 材料のキャラクタリゼイションには必要不可欠な装置です。
[仕様] 常温～750℃（±40 mW）
ノイズ：１μＷ（rms、150℃ホールド時）
46.液体クロマトグラフ質量分析器（LC-MS）
[機器概要] LC-MSは、液体中の成分を固定相と移動相に対する親和性の差を用いて成分を分離し、質量分析装置で検出する手法です。
[分解能] 60,000
[高分子量領域] ～30,000 m/z
[イオン源] ESI、APCI、マルチモードイオン源、ASAP
47.湿式微粒化装置（ジェットミル）
（常光社製 ナノジェットパル JN20）
[機器概要] 本装置は、スラリー状の試料を最高250MPaに加圧し、Nano Jet Pul (NJP)ユニットを通過させる事で、分散・乳化・粉砕・破砕を行う微粒化装置です。 湿式ジェットミルでは、粒子を均一な大きさに整える効果があり、安定した分散を実 現可能です。また、NJPユニットには単結晶のダイヤモンドを使用しており、高い摩 耗性や極少のコンタミでの処理が可能です。電子材料や顔料、化粧品、食品など幅広 い分野で利用できます。
[仕様] 最小サンプル量：8ml
処理可能最高粘度：100,000 cP
最大流量：35mL/min
最大吐出量：200MPa
有機溶媒対応（アセトン、トルエン、NMPなど）
48.断面試料作製装置
（日本電子社製 クロスセクションポリッシャ IB-09010CP）
[機器概要] 本装置はブロードなAr+イオンビームと遮蔽(しゃへい)板を用いて試料 の断面を加工する新しい発想の断面試料作製装置です。これまで経験を必要とした他 の手法に比べ、個人差が無く質の良い断面を短時間で得る事ができます。
[仕様] イオン加速電圧：2～6kV
イオンビーム径：500μm
ミリングスピード：100μm/h
最大搭載試料サイズ：11mm(幅)×10mm(長さ)×2mm(厚さ)
使用ガス：アルゴンガス
49.真空ミキサー（あわとり練太郎）
（シンキー社製　ARV-200）
[機器概要] 本装置は、各種材料等を効率よく混ぜ合わせながら、同時に脱泡できる 高性能なミキシング・脱泡機です。材料の入った容器を自転させながら、ある半径を もって公転させることにより、大きな遠心力を連続的に発生させ、材料の中に発生ま たは存在する気泡を押し出すと同時に、混和を行います。真空ポンプを併用すること により、更に強力な脱泡が可能。
[仕様] 真空式・自転／公転プロペラレス混和方式
公転速度：最大2000rpm
自転速度：最大1000rpm
標準容器：250mlおよび150ml

PAGETOP